含卤素的催化剂及其制备方法[发明专利]

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专利名称：含卤素的催化剂及其制备方法专利类型：发明专利发明人：福永哲也,石井光惠申请号：CN98806058.2申请日：19980605公开号：CN1259886A公开日：20000712

摘要：本发明涉及一种含卤素的催化剂,其含有一或多种卤素组分,其中所述催化剂中的卤素量分布均匀;特别地,涉及一种含卤素的催化剂,其中利用电子探针微量分析(以下称为“EPMA”)装置在一个方向使催化剂截面上的卤原子经线性分析测量得到的截面宽度方向距离(x:距催化剂一表面的距离)和X－射线强度(Ⅰ)间关系的图示中,比率α[( F－F)值与积分值( F)之比{( F－F)/F}」为0.17或更低,其中(F－F)值是从催化剂一表面和另一表面之间上述Ⅰ对x积分得到的值(F)中减去在催化剂表面间表示X－射线强度的曲线最小值处曲线切线的X－射线强度(Ⅰ)对x积分得到的值(F)的差。还涉及一种含卤素的催化剂的制备方法,包括将一或多种卤素组分负载于L型沸石上,然后在15%重量/小时或更低的水蒸发速率下干燥的步骤。根据本发明可提供催化剂中卤素量分布均匀从而可降低裂化活性的催化剂,及该催化剂的制备方法。

申请人：出光兴产株式会社,切夫里昂化学有限责任公司

地址：日本东京

国籍：JP

代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：隗永良

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