光刻机的焦距监控光罩及方法[发明专利]

来源：筏尚旅游网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：光刻机的焦距监控光罩及方法专利类型：发明专利发明人：陈成,朱晓斌,蔡亮申请号：CN201811195014.8申请日：20181015公开号：CN109188855A公开日：20190111

摘要：本发明公开了一种光刻机的焦距监控光罩，包括：多个具有平面式结构的第一种图形结构和多个由平面式结构和楔型结构叠加而成第二种图形结构，楔型结构能使光线方向和光程改变；第一和二种图形结构排列成对应的阵列结构；光刻机的焦距由通过第一种图形结构曝光形成的第一种曝光图形和由第二种图形结构曝光形成的第二种曝光图形的叠加图形的套准进行测量得到，楔型结构对光线方向的改变使焦距的纵向变化转移到横向上使套准计算焦距得以实现；所有第二种图形结构的楔型结构的楔型方向设置相同。本发明还公开了一种光刻机的焦距监控方法。本发明能增加用于焦距测量的叠加图形的数量增加以及分布位置，提高对焦距的模拟计算的精确性，且成本低易实现。

申请人：上海华力集成电路制造有限公司

地址：201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室

国籍：CN

代理机构：上海浦一知识产权代理有限公司

代理人：郭四华

更多信息请下载全文后查看

因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容

查看全文