单晶炉的热屏[发明专利]

*CN103184509A*

(10)申请公布号(10)申请公布号 CN 103184509 A(43)申请公布日 2013.07.03

(12)发明专利申请

(21)申请号 201110455273.1(22)申请日 2011.12.31

(71)申请人汤仁兴

地址214434 江苏省无锡市江阴市开发区滨

江东路299号(72)发明人汤仁兴

(74)专利代理机构江阴市同盛专利事务所(普

通合伙) 32210

代理人唐纫兰 曾丹(51)Int.Cl.

C30B 15/14(2006.01)

权利要求书1页 说明书1页 附图1页权利要求书1页 说明书1页 附图1页

()发明名称

单晶炉的热屏(57)摘要

本发明涉及一种单晶炉的热屏，属于单晶硅的生产制造设备技术领域。一种单晶炉的热屏，其特征在于：它内热屏层（1）和外热屏层（2），所述内热屏层（1）和外热屏层（2）之间设有保温层（3）。所述保温层（3）为软毡。这种单晶炉的热屏在内热屏层和外热屏层之间增设了保温层，该保温层的材料为软毡，其导热系数小，隔热性能好，使得内热屏层的温度不易传到外热屏层上，从而提高了热屏的保温性能，保证了单晶硅的正常生产。

CN 103184509 ACN 103184509 A

权 利 要 求 书

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1.一种单晶炉的热屏，其特征在于：它内热屏层（1）和外热屏层（2），所述内热屏层（1）和外热屏层（2）之间设有保温层（3）。

2.根据权利要求1所述的一种单晶炉的热屏，其特征在于：所述保温层（3）为软毡。

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CN 103184509 A

说 明 书单晶炉的热屏

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技术领域

[0001]

本发明涉及一种单晶炉的热屏，属于单晶硅的生产制造设备技术领域。

背景技术

单晶硅是具有完整的点阵结构的晶体，是一种良好的半导体材料，目前被广泛用

于半导体器件以及太阳能电池的制造。现有的单晶硅制造设备为单晶炉，其主要包括炉底、下炉体、上炉体、上炉盖、隔离阀和副炉六大部分组成。[0003] 其中下炉体中固定有热屏，用于对放入其内部的单晶硅进行加热。热屏在加热过程中需要保持较高的温度，然而以往单晶炉热屏仅由内热屏层和外热屏层两层组成，其的保温效果较差，导致单晶硅的生产受到影响。

[0002]

发明内容

[0004] 本发明的目的在于克服上述不足，提供一种能够保证单晶硅正常生产，保温效果较好的单晶炉的热屏。

[0005] 本发明的目的是这样实现的：

本发明单晶炉的热屏，内热屏层和外热屏层，所述内热屏层和外热屏层之间设有保温层。

[0006] 所述保温层为软毡。

[0007] 这种单晶炉的热屏具有以下优点：

这种单晶炉的热屏在内热屏层和外热屏层之间增设了保温层，该保温层的材料为软毡，其导热系数小，隔热性能好，使得内热屏层的温度不易传到外热屏层上，从而提高了热屏的保温性能，保证了单晶硅的正常生产。附图说明

图1为本发明单晶炉的热屏的结构示意图。[0009] 图中：内热屏层1、外热屏层2、保温层3。

[0008]

具体实施方式

[0010] 参见图1，本发明涉及的一种单晶炉的热屏，包括内热屏层1和外热屏层2，所述内热屏层1和外热屏层2之间设有保温层3，该保温层3为软毡，其导热系数较低，隔热性能好，使得内热屏层1的温度不易传到外热屏层2上，从而提高了热屏的保温性能，保证了单晶硅的正常生产。

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CN 103184509 A

说 明 书 附 图

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图1

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