专利名称：聚酰亚胺抛光薄膜及其制备方法专利类型：发明专利
发明人：斯庆苏都,董亚明,董丽华,范春华申请号：CN200710040356.8申请日：20070430公开号：CN101045794A公开日：20071003
摘要：本发明公开了一种聚酰亚胺抛光薄膜及其制备方法，可用于抛光领域。这种聚酰亚胺抛光薄膜。包括如下步骤：向制备聚酰亚胺的前驱体溶液中添加耐磨砂砾，干燥，加热。本发明所制备的聚酰亚胺抛光薄膜，能抛光各类材料。根据不同抛光精度要求，调整薄膜所含砂砾的粒径和浓度，可使器件达到不同程度的表面平整度和光洁度。该薄膜各项性能优良，能抵抗在摩擦过程中产生的热，在四百度高温仍能持续工作，而且成本低廉。
申请人：上海师范大学
地址：200234 上海市徐汇区桂林路100号
国籍：CN
代理机构：上海伯瑞杰知识产权代理有限公司
代理人：吴瑾瑜
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