专利名称:真空镀膜用旋转掩膜装置专利类型:实用新型专利发明人:高希存
申请号:CN200620097014.0申请日:20060530公开号:CN2915882Y公开日:20070627
摘要:一种真空镀膜用旋转掩膜装置包括基片架、掩膜板,基片架上开有放置所需镀膜基片用的基片槽,基片架套在转轴上,转轴的一端端部与掩膜板固接,掩膜板上设有定位孔和挡板,挡板可遮盖基片架上的基片槽,转轴上还套有固定钢柱,固定钢柱与基片架固定在一起,转轴与固定钢柱之间设有滚珠,使转轴可在固定钢柱内转动,固定钢柱上设轴向的通孔,通孔的位置与掩膜板上的定位孔相匹配,固定钢柱与掩膜板之间设有定位圆珠,定位圆珠卡在定位孔与固定钢柱的通孔间,通孔的另一端设置紧固螺栓,通孔内放置弹簧,紧固螺栓使通孔内的弹簧挤压定位圆珠。本实用新型的真空镀膜用旋转掩膜装置具有手感强、操作简便,不影响真空度及制造方便的特点。
申请人:南昌大学
地址:330047 江西省南昌市南京东路235号南昌大学理学院
国籍:CN
代理机构:江西省专利事务所
代理人:黄新平
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