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光掩模的光学邻近校正方法、制造方法和半导体器件的制作方法[发明专利]

来源：筏尚旅游网

专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：光掩模的光学邻近校正方法、制造方法和半导体器

件的制作方法

专利类型：发明专利发明人：张雷

申请号：CN202010407878.2申请日：20200514公开号：CN1115059A公开日：20200807

摘要：本发明提供了一种光掩模的光学邻近校正方法，包括以下步骤：获得所述光掩模的设计图形，所述设计图形具有单元格阵列；根据所述单元格阵列中各个单元格的设计特征，将所述各个单元格进行分类；对每类单元格的至少一个代表性单元格进行光学邻近校正；以及将每类单元格的所述代表性单元格的校正结果应用到每类单元格的其他单元格。

申请人：长江存储科技有限责任公司

地址：430079 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号

国籍：CN

代理机构：上海专利商标事务所有限公司

代理人：骆希聪

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