等离子体处理装置及等离子体处理方法[发明专利]

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专利名称：等离子体处理装置及等离子体处理方法专利类型：发明专利

发明人：置田尚吾,水野文二,奥村智洋申请号：CN2015106887.9申请日：20150831公开号：CN105390361A公开日：20160309

摘要：一种等离子体处理装置及等离子体处理方法，提高等离子体处理的工艺稳定性，对具备框架和保持片的传送载体所保持的基板实施等离子体处理，具备：腔体，具有减压的处理室；工艺气体供给部，向处理室供给工艺气体；减压机构，对处理室减压；等离子体激发装置，使处理室内产生等离子体；台，载置传送载体并设置于腔体内；冷却机构，冷却台；罩体，覆盖保持片的一部分和框架的至少一部分，具有使基板露出到等离子体的窗部；移动装置，使罩体相对于框架的相对位置移动，罩体具备：顶盖部，与载置于台上的框架相对；筒状周侧部，从顶盖部的周边缘向台侧延伸；矫正部件，从顶盖部和/或周侧部相对于载置于台上的框架突出，使框架推压台来矫正框架的歪斜。

申请人：松下知识产权经营株式会社

地址：日本大阪

国籍：JP

代理机构：中原信达知识产权代理有限责任公司

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