专利名称：一种磁控溅射真空电子束蒸镀装置专利类型：实用新型专利发明人：田守文
申请号：CN201720366134.4申请日：20170410公开号：CN206635405U公开日：20171114
摘要：本实用新型公开了一种磁控溅射真空电子束蒸镀装置，该装置包括真空室和电源，真空室内设置有基片、等离子屏、第一靶、第二靶和电极，等离子屏中设置有磁控溅射装置，第一靶、第二靶和电极被等离子屏包围在其中；电源包括单极直接电压脉冲产生装置和双极脉冲产生装置以及切换装置，单极直接电压脉冲产生装置和双极脉冲产生装置分别与切换装置连接，切换装置分别与第一靶、第二靶和电极连接。该磁控溅射真空电子束蒸镀装置沉积产生的膜即便是厚度超过2微米，膜中的机械张力仍然小于500mPa，不会对膜产生损坏作用，保证了成膜质量。
申请人：天津市大阳光大新材料股份有限公司
地址：301600 天津市静海县经济开发区新区聚海道以东
国籍：CN
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