专利名称：一种基于反应离子束刻蚀技术制备薄膜有序微结构
的方法
专利类型：发明专利
发明人：吕男,李宁,滕飞,封雷,吴菲菲申请号：CN201410854486.5申请日：20141231公开号：CN104555910A公开日：20150429
摘要：一种基于反应离子刻蚀聚合物制备有序薄膜图案的方法，属于有序微结构技术领域。具体是对基底及其表面的单层聚合物微球进行反应离子刻蚀，从而在基底表面形成有序薄膜图案，通过改变反应离子刻蚀参数可以调控薄膜图案。进一步再在此基底表面进行无电沉积，金属纳米粒子可以选择性的吸附在没有薄膜或者不致密薄膜的区域，进而形成金属纳米粒子的有序阵列。金属纳米粒子的有序阵列在拉曼检测、等离子体调控方面具有一定的应用价值。同时，由于所生成的薄膜表面具有官能团，因此可以应用于选择性自组装，以及酶、蛋白质的选择性吸附，在生物监测及传感方面也会有比较好的应用前景。
申请人：吉林大学
地址：130012 吉林省长春市前进大街2699号
国籍：CN
代理机构：长春吉大专利代理有限责任公司
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