通过反向散射粒子对掩埋特征的检测[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：通过反向散射粒子对掩埋特征的检测专利类型：发明专利

发明人：汪苏,林嘉文,陈仲玮,叶苍浚申请号：CN201880062475.X申请日：20180921公开号：CN111247618A公开日：20200605

摘要：本文中公开了用于使用反向散射粒子检测掩埋特征的设备(100)和方法。在一个示例中，该设备包括：带电粒子的源；平台(30)；被配置为将带电粒子的射束引导到平台上支撑的样本(9)的光学器件(16)；被配置为检测来自样本的射束中的带电粒子的反向散射粒子的信号检测器(5010)；其中信号检测器具有角分辨率。在一个实例中，该方法包括：从样本的区域获得反向散射粒子的图像；基于图像来确定掩埋特征的存在或位置。

申请人：ASML荷兰有限公司

地址：荷兰维德霍温

国籍：NL

代理机构：北京市金杜律师事务所

代理人：崔卿虎

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