(12)发明专利说明书
(21)申请号 CN201310240295.5 (22)申请日 2013.06.09
(71)申请人 辛纳普蒂克斯日本合同会社
地址 日本东京都中野区中野四丁目10番2号
(10)申请公布号 CN1034867B
(43)申请公布日 2017.12.05
(72)发明人 佐藤一彦;藤井康博
(74)专利代理机构 中国专利代理()有限公司
代理人 秦琳
(51)Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
()发明名称
SRAM
(57)摘要
本发明提供一种SRAM,其根据允许网
孔的布局规则,在下部具有钛膜或钽膜的金属布线上配置具有钨插塞的过孔,在所述SRAM的存储单元中,可以得知存在导致成品率降低的情况。发现其原因为,在产生网孔的情况下,在用于过孔的埋入的钨CVD时,作为其反应气体的六氟化钨使金属布线的下部钛膜或钽膜消失,使金属布线与下层过孔的接触断开或高电阻化。本发明抑制由这样的缺陷原因导致的成品率的降低。在最下层包含钛膜或钽膜的金属布线的端部以与具有
钨插塞的上层过孔的一条边之间不足对准精度的宽裕度(余量)相邻地配置的情况下,尽可能地使下层过孔远离所述金属布线的端部而配置。 法律状态
法律状态公告日
2014-01-01 2014-01-01 2015-01-07 2015-01-07 2015-06-17 2015-06-17 2015-06-17 2015-06-17 2016-10-12 2016-10-12 2017-12-05
法律状态信息
公开 公开 著录事项变更 著录事项变更 实质审查的生效 著录事项变更 实质审查的生效 著录事项变更 著录事项变更 著录事项变更 授权
法律状态
公开 公开
著录事项变更 著录事项变更 实质审查的生效 著录事项变更 实质审查的生效 著录事项变更 著录事项变更 著录事项变更 授权
权利要求说明书
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