晶片清洗装置[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：晶片清洗装置专利类型：发明专利发明人：高思玮

申请号：CN201010129105.9申请日：20100311公开号：CN102194653A公开日：20110921

摘要：本发明公开了一种晶片清洗装置，包括永磁体，用于产生磁通量信号；霍尔传感器，用于在刷子旋转时，接收所述永磁体产生的磁通量信号，将所述磁通量信号转变为电信号；位置传感器，用于侦测该刷子处于开启还是闭合状态，在该刷子处于闭合状态时，将代表该刷子闭合的逻辑信号发送给PLC；PLC，用于读取霍尔传感器发送的电信号，得到所述电信号的频率，当该电信号的频率小于设置的频率阈值时，如果读取到位置传感器发送的代表该刷子闭合的逻辑信号，将该逻辑信号发送给控制器；控制器，用于在读取到PLC发送的逻辑信号时告警。采用本发明装置清洗晶片时，能够及时发现刷子转速异常。

申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

地址：201203 上海市浦东新区张江路18号

国籍：CN

代理机构：北京德琦知识产权代理有限公司

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