专利名称：半导体工艺控制系统和半导体处理控制系统专利类型：发明专利
发明人：罗纳德·维恩·斯肖尔,马克·罗杰·科温顺,苏雷什·库马
拉斯瓦米,阿米塔巴·普里
申请号：CN201710208271.X申请日：20130220公开号：CN107515830A公开日：20171226
摘要：本发明的实施例涉及使用非旧有控制器执行旧有半导体应用程序的系统及方法。在一些实施例中，硬件抽象层及/或模仿器可用于提供非旧有操作系统与包括旧有应用程序的旧有部件之间的通信。在一些实施例中，多种方法及/或装置可用于模仿及/或翻译旧有部件与非旧有部件之间的通信。
申请人：应用材料公司
地址：美国加利福尼亚州
国籍：US
代理机构：北京律诚同业知识产权代理有限公司
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