专利名称：一种成像系统专利类型：实用新型专利发明人：何伟,李帅
申请号：CN202020109496.7申请日：20200117公开号：CN212134535U公开日：20201211
摘要：本实用新型公开了一种成像系统，包括：X射线显微镜(Micro‑CT)子系统、离子研磨仪(Ion‑Milling)子系统、扫描电子显微镜(SEM)子系统、处理器；所述X射线显微镜(Micro‑CT)子系统用于获取待测样品的三维图像；所述离子研磨仪(Ion‑Milling)子系统用于发射离子束对所述待测样品进行加工，得到目标区域的目标截面；所述扫描电子显微镜(SEM)子系统用于获取所述目标截面的二维图像；所述处理器，用于对所述二维图像进行三维重构，得到所述目标区域的三维成像。本实用新型提供的成像系统可以快速的、精准的实现大面积待测样品内部结构三维成像分析。
申请人：聚束科技(北京)有限公司
地址：100176 北京市大兴区北京经济技术开发区宏达北路8号8幢8101室
国籍：CN
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