专利名称:一种静电屏蔽多层结构膜的制造方法专利类型:发明专利发明人:高国兴
申请号:CN200810184269.4申请日:20081208公开号:CN101628494A公开日:20100120
摘要:本发明公开了一种静电屏蔽多层结构膜的制造方法,包括下述步骤:1)共同挤压得到聚烯烃基层和最内表层复合层,其中在最内表层内加入有永久非迁移性防静电化学添加剂;2)将聚烯烃基层与最内表层的相对面附着至粘合层;3)接着将粘合层附着到由金属层和聚酯层组合成的金属化聚酯层,其中金属层与粘合层相接触;从而可以得到具有较薄最内层且可以永久非迁移性防静电的静电屏蔽多层结构膜,可以减少生产成本,具有商业推广性。
申请人:高国兴
地址:马来西亚雪兰莪州帕拉让克苏马湖克苏马路2/215号
国籍:MY
代理机构:深圳市千纳专利代理有限公司
代理人:童海霓
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