研磨垫及其制造方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：研磨垫及其制造方法专利类型：发明专利

发明人：下村哲生,中森雅彦,山田孝敏,增井敬志,驹井茂,小野

浩一,小川一幸,数野淳,木村毅,濑柳博

申请号：CN200710148751.8申请日：20021003公开号：CN101130234A公开日：20080227

摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。

申请人：东洋橡胶工业株式会社

地址：日本大阪府大阪市

国籍：JP

代理机构：中原信达知识产权代理有限责任公司

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