专利名称:太阳能电池背面钝化局部扩散结构及其制造方法专利类型:发明专利
发明人:江豪祥,廖品冠,江起帆申请号:CN2013101503.3申请日:20130427公开号:CN103681951A公开日:20140326
摘要:本发明提供一种太阳能电池背面钝化局部扩散结构及其制造方法,其构成包括:硅片层,其底面是设有多个凸出的电极加工部,该电极加工部的端边是具有一端接面;一钝化膜,该电极加工部是为凸出的形状并凸出于该钝化膜;一第一电极,设于一电极接面层,该第一电极接面层是为一金属硅合金层,该第一电极是为凸出的形状并凸出于该钝化膜;由此,能使烧结工艺所形成的硅片层空洞得以填补,使具有较佳组件使用寿命及提升其能量转换效率,并得以避免工艺成本耗费而能符合制造经济效益及积极提升其产业竞争力。
申请人:耀华电子股份有限公司
地址:中国新北市土城区中山路4巷3号
国籍:CN
代理机构:中科专利商标代理有限责任公司
代理人:汤保平
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