专利名称：一种线结构光投影装置及轮廓测量方法专利类型：发明专利
发明人：杜永兆,魏梦婉,郑超英,郭明辉,柳培忠,傅玉青申请号：CN202010661566.4申请日：20200710公开号：CN111780688A公开日：20201016
摘要：本发明提供了一种线结构光投影装置及轮廓测量方法，所述装置包括投影光源(1)、光束准直器(2)、中性可调衰减器(3)、衍射光栅(4)、傅里叶透镜(5)、双针孔空间滤波器(6)以及投影屏(8)；所述投影光源(1)发出的光束，依次经过光束准直器(2)和中性可调衰减器(3)后，光束入射至衍射光栅(4)发生衍射现象并形成多个衍射光束，其中+1级和‑1级两束衍射光经傅里叶透镜(5)后被聚焦于放置于傅里叶透镜(5)焦平面上的双针孔滤波器(6)并发生针孔衍射，形成两个点投光源，两个点投光源发出的光发生杨氏双孔干涉，产生的干涉条纹作为线结构光投影到投影屏(8)，提高了干涉条纹投影的稳定性。
申请人：华侨大学,泉州市华工智能技术有限公司
地址：362000 福建省泉州市城华北路269号华侨大学
国籍：CN
代理机构：泉州市文华专利代理有限公司
代理人：陈雪莹
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