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抗蚀剂下层膜形成用组合物[发明专利]

来源:筏尚旅游网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:抗蚀剂下层膜形成用组合物专利类型:发明专利

发明人:西卷裕和,桥本圭祐,坂本力丸申请号:CN201780030002.7申请日:20170502公开号:CN1091778A公开日:20190104

摘要:本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含:具有下述式(1a)和/或式(1b)所示的重复结构单元的聚合物、和溶剂。[式(1a)和(1b)中,2个R各自地表示烷基、烯基、芳香族烃基、卤原子、硝基或氨基,2个R各自地表示氢原子、烷基、烯基、缩醛基、酰基或缩水甘油基,R表示可以具有取代基的芳香族烃基或杂环基,R表示氢原子、苯基或萘基,2个k各自地表示0或1,m表示3~500的整数,p表示3~500的整数,X表示苯环,与该苯环结合的2个‑C(CH)‑基处于间位或对位的关系。]

申请人:日产化学株式会社

地址:日本东京都

国籍:JP

代理机构:北京市中咨律师事务所

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